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    激光氣體分析儀

    XTK-2200TD型激光痕量氣體分析儀

    XTK-2200TD型激光痕量氣體分析儀 XTK-2200TD型激光痕量氣體分析儀

    產品詳情

    產品概述:
        XTK-2200TD型激光痕量氣體分析儀,通過將智能氣體預處理技術、半導體激光吸收光譜(DLAS)技術、長光程氣室技術、三者結合在一起,

    使得產品在集成了智能預處理系統的同時,具備痕量氣體檢測的高性能,高可靠性,為天然氣、石化、化工、鋼鐵等行業的痕量氣體分析提供

    理想的解決方案。
    優勢特點:
    激光(TDLAS) 技術
      ● 無交叉干擾:測量不受背景氣、粉塵交叉干擾,測量更準確;
      ● 響應快:響應速度≦1S,實現工業現場實時分析;
      ● 壽命長:光源壽命長達 5~10年;
      ● 維護量?。涸诰€標定技術,無需拆卸設備;
    全新光路設計,測量精度高
      ● 采用長光程專利技術,多次反射,比傳統對射有更高的靈敏度和測量精度;
      ● 無需現場對光,使用方便;
    雙通道智能吹掃系統
      ● 一路進氣,另一路反吹,雙通道交替使用,保證取樣連續穩定,達到分析要求;
    隔爆設計更安全
      ● 隔爆設計,比正壓防爆更安全;
    高集成,成本更低
      ● 旁路原位安裝,無需分析小屋,節約成本;
      ● 支持伴熱(選配),保障低溫環境正常使用;
    物聯網技術(可選)
      ● 支持無線物聯網模塊, 遠程控制、無線傳輸,運行及分析數據多終端顯示, 可查看設備實時運行狀態、透過率等信息,并提供報警記錄、
         歷史數據查詢,信息能以短信方式推送相關人員 
    現場安裝:
      ◆ 安裝到正壓區,水平/垂直安裝均可,現場需配備高純氮氣或儀表專用吹掃氣
      ◆ 無需配置分析小屋;
      ◆ 無需配套預處理系統;
      ◆ 原位安裝,開孔方便,無需現場對光;
     技術參數:

    分析儀類別參數指標
         激光痕量
       氣體分析儀
    技術指標測量組分H2S: 0-200ppm
    H2:  0-10%,0-100%
    NH3: 0-10ppm,
    HCL: 0-20ppm,
    線性誤差≤±0.5%F.S./半年
    量程漂移≤±0.5%F.S./半年
    零點漂移≤±0.5%F.S./半年
    重 復 性<1%
    防爆等級ExdIICT6 Gb
    防護等級IP65
    響應時間≤1s(T90)
    接口信號模擬量輸出2路4~ 20mA電流(隔離、 最大負載750Ω)
    繼電器輸出2路輸出(繼電器規格: 24V, 1A)
    模擬量輸入2路4~ 20mA電流(溫度、 壓力補償)
    通訊接口RS485/RS232/GPRS(可選)
    電氣特性電       源24VDC(18~ 36VDC)
    功       耗< 25W(分析儀主機)
    工作條件環境溫度-35~ 60℃
    吹掃氣體0.3~ 0.8MPa工業氮氣或干燥潔凈儀表氣等


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